Моделирование электронно-литографического процесса экспонирования полимерных резистов К. А. Валиев, А. Н. Кириллов, Б. Н. Ковтун и др.; ... Лаб. микроэлектроники. . М. Б. и. 1985. купить

Помощь Корзина ( 0 )

Регистрация

Вход

Изготовление электронных копий любых изданий

Техника / Радиоэлектроника / Автоматика и телемеханика /

Техника / Радиоэлектроника /

Техника / Техника и технические науки в целом /

Книга ID: 1128157

Моделирование электронно-литографического процесса экспонирования полимерных резистов К. А. Валиев, А. Н. Кириллов, Б. Н. Ковтун и др.; ... Лаб. микроэлектроники

Тематика, ключевые слова:

Микроэлектронные схемы интегральное - Производство - Математические исследования.
Фотолитография - Математические исследования.

Сведения об издании:

М. Б. и. 1985
34 с. 20 см

Язык:

rus

Цена не определена.
Для уточнения:
Написать в Telegram

ИЛИ

Написать в WhatsApp

ИЛИ

Написать на email
[email protected]

о проекте|каталог|поиск|помощь

copyright (c) 2010-2024 any-book.ru